設備清潔劑
設備清潔劑是專為化工流程設備長期使用後徹底清潔而設計的全能清潔劑。
- 設備清潔劑能去除硬水殘渣，感光膜及金屬鹽聚積物。
- 設備清潔劑用於印刷電路板及化學侵蝕工業的設備維護而不會傷害任何塑膠或金屬。
- 設備清潔劑可在設備所能承受的溫度下工作。
- 設備清潔劑能清潔下述殘留物:顯影槽殘留物，剝膜槽殘留物，阻蝕層脫除劑、蝕刻劑、消泡劑及清潔劑等的殘留物。
- 低起泡性。
- 不腐蝕設備。
- 低劑量下伴隨使用NaOH成本低。
- 處理後廢液處理容易。
- 外觀:淡黃色至淡色溶液。
- 比重:1.27±0.03
建議使用劑量
5～10％ 設備清潔劑
5～10％ NaOH
80～90％ H2O
使用時溫度及時間
50℃～60℃, 2～4 hrs攪動或循環狀態下
配槽方式
(1)先加入水，再加入NaOH，最後加入設備清潔劑。
(2)之後再開始加溫至50℃～60℃。